| Индекс УДК | 544 |
|
Plasma parameters and SiO[2] etching kinetics in C[4]F[8] + Ar + O[2] gas mixture A. M. Efremov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon |
|
| Аннотация | Проведено исследование влияния соотношения Ar/O[2] на параметры плазмы, стационарные концентрации активных частиц и кинетику травления SiO[2] в трехкомпонентной смеси C[4]F[8]+Ar+O[2] в условиях, характерных для процессов реактивно-ионного травления. (Алгоритм исследования сочетал измерения скоростей травления, диагностику плазмы зондами Лангмюра и 0-мерную модель плазмы для получения данных по стационарным концентрациям и плотностям потоков активных частиц). |
| Название источника | Известия вузов. Химия и химическая технология |
| Место и дата издания | 2020 |
| Прочая информация | Т. 63, вып. 6. - С. 37-43 |
