| Индекс УДК | 661.861'022-12 |
|
Влияние имплантации ионов Ar{+} на характер механического повреждения аморфного SiO[2] И. П. Щербаков, А. Е. Чмель |
|
| Аннотация | Поверхность образцов аморфного SiO[2], получивших различные дозы имплантации ионов Ar{+} с энергией 40 кэВ, подвергали точечному ударному воздействию. Кинетику накопления микротрещин наблюдали с помощью метода акустической эмиссии. Квадрат амплитуды импульса акустической эмиссии пропорционален энергии, выделенной при образовании микротрещины. Показано, что распределения энергии при повреждении образцов, получивших дозу до 1 x 10{15} Ar{+}/cм{2} включительно, были случайными и идентичными распределению в нетронутой имплантацией поверхности. При дозе 5 x 10{15} и 1 x 10{16} Ar{+}/cm{2} распределения энергии следовали степенному закону, характерному для коррелированных событий. В имплантированном материале локальное разрушение поверхности имело признаки пластического течения. |
| Название источника | Физика и химия стекла |
| Место и дата издания | 2020 |
| Прочая информация | Т. 46, № 5. - С. 509-516 |
