Поиск

Параметры и состав плазмы CF[4]+O[2]+Ar и CHF[3]+O[2]+Ar в процессах реактивно-ионного травления

Авторы: Ефремов, А. М. Kwang-Ho Kwon Соболев, А. М. Бетелин, В. Б.
Подробная информация
Индекс УДК 66.02
Параметры и состав плазмы CF[4]+O[2]+Ar и CHF[3]+O[2]+Ar в процессах реактивно-ионного травления
А. М. Ефремов, А. М. Соболев, В. Б. Бетелин, Kwang-Ho Kwon
Объем 5 рис., 2 табл.
Аннотация Проведен сравнительный анализ плазменных систем CF[4]+O[2]+Ar и CHF[3]+O[2]+Ar в условиях, характерных для процессов реактивно-ионного травления кремния и его соединений. Установлено, что замещение аргона на кислород в обеих смесях: приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора; сопровождается снижением полимеризационной нагрузки газовой фазы на контактирующие с ней поверхности и вызывает резкое (до двух порядков величины при 20 % О[2]) уменьшение толщины фторуглеродной полимерной пленки при сохранении более высоких значений для системы CHF[3]+O[2]+Ar.
Название источника Известия вузов. Химия и химическая технология
Место и дата издания 2019
Прочая информация Т. 62, вып. 12. - С. 108-118