| Индекс УДК | 666.3-135 |
|
Исследование поведения покрытий Mo[40]Si[40]B[20] в температурном диапазоне 1000-1200 °C [Текст] Ф. В. Кирюханцев-Корнеев, И. В. Яцюк |
|
| Аннотация | Исследована стойкость магнетронных покрытий Mo[40]Si[40]B[20] к высокотемпературному окислению в температурном диапазоне 1000–1200°С. Основными фазами исходного покрытия являются высокотемпературная бета-MoSi[2] с гексагональной решеткой и t-MoB. При температуре 1000°С происходит фазовый переход бета-MoSi[2] в низкотемпературную тетрагональную бета-MoSi[2]. После отжигов основными структурными составляющими покрытия являются фазы t-MoSi[2], t-Mo[5]Si[3] и t-MoB. При 1000-1200°С происходит увеличение размеров образовавшихся кристаллитов фаз t-MoSi[2], t-Mo[5]Si[3] и t-MoB в 1. 5 раза. Исследовано окисление покрытий при 1200°С в изотермическом и неизотермическом режиме. После отжига на поверхности формируется плотный оксидный слой SiO[2], предотвращающий диффузию кислорода к подложке и ее дальнейшее окисление. В случае неизотермического отжига толщина защитного оксидного слоя при том же времени выдержки увеличивается в 2. 6-3. 6 раз в сравнении с толщиной при изотермической выдержке. |
| Название источника | Физика и химия стекла |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 45, № 4. - С. 348-354 |
