Индекс УДК | 666.113.32 |
Электродные свойства галогенидхалькогенидных стекол и аморфных пленок, полученных методом химического нанесения Байдаков Д. Л., Школьников Е. В. [Текст] |
|
Аннотация | Методом химического нанесения из растворов галогенидхалькогенидных стекол в н-бутиламине получены многокомпонентные галогенидхалькогенидные пленки CuI-РbI[2]-As[2]Se[3], CuI-AgI-As[2]Se[3], PbI[2]-AgI-As[2]Se[3] и изучены электродные свойства стекол и пленок. Установлено, что электродные свойства галогенидхалькогенидных стекол и пленок аналогичного состава практически не отличаются. Сходство электродных характеристик галогенидхалькогенидных стекол и пленок объясняется сохранением полимерной структуры стекол при их растворении в н-бутиламине и нанесении пленок из раствора. |
Место и дата издания | 2018 |
Прочая информация | Т. 44, № 4. - С. 423-429 |
Название источника | Физика и химия стекла |