Поиск

Радиационно-стимулированные процессы в облучаемом электронами щелочно-силикатном стекле

Авторы: Муссаева, М. А. Ибрагимова, Э. М. Бузриков, Ш. Н.
Подробная информация
Индекс УДК 666.112.2
Радиационно-стимулированные процессы в облучаемом электронами щелочно-силикатном стекле
[Текст]
Муссаева М. А., Ибрагимова Э. М., Бузриков Ш. Н.
Аннотация Исследовано формирование локализованного заряда при электронном облучении бесцветного силикатного стекла, содержащего Na, К и Ва. Облучение проводили в режиме стерилизации на воздухе при комнатной температуре на ускорителе электронов. Интегральный флюенс накапливался в 6 этапов последовательного облучения от 1. 8 • 10{13} до 1. 8 • 10{15} эл/см{2}, что соответствовало экспозиционным дозам от 0. 3 до 30 МР. Облучение создает стабильную темнокоричневую окраску стекла, которая защищает лекарственные препараты от воздействия света. В спектрах поглощения обнаружен зависящий от накопленной дозы красный сдвиг края поглощения от 300 до 500 нм, характерный для заряженных металлсодержащих наночастиц размером до 20-30 нм.
Название источника Физика и химия стекла
Место и дата издания 2018
Прочая информация Т. 44, № 3. - С. 217-222