Индекс УДК | 666.112.2 |
Радиационно-стимулированные процессы в облучаемом электронами щелочно-силикатном стекле [Текст] Муссаева М. А., Ибрагимова Э. М., Бузриков Ш. Н. |
|
Аннотация | Исследовано формирование локализованного заряда при электронном облучении бесцветного силикатного стекла, содержащего Na, К и Ва. Облучение проводили в режиме стерилизации на воздухе при комнатной температуре на ускорителе электронов. Интегральный флюенс накапливался в 6 этапов последовательного облучения от 1. 8 • 10{13} до 1. 8 • 10{15} эл/см{2}, что соответствовало экспозиционным дозам от 0. 3 до 30 МР. Облучение создает стабильную темнокоричневую окраску стекла, которая защищает лекарственные препараты от воздействия света. В спектрах поглощения обнаружен зависящий от накопленной дозы красный сдвиг края поглощения от 300 до 500 нм, характерный для заряженных металлсодержащих наночастиц размером до 20-30 нм. |
Название источника | Физика и химия стекла |
Место и дата издания | 2018 |
Прочая информация | Т. 44, № 3. - С. 217-222 |