Поиск

Ориентированные пленки In[3 - x]S[4] на поверхности (100) монокристаллов Si, GaAs, InP

Авторы: Наумов, А. В. Сергеева, А. В. Семенов, В. Н.
Подробная информация
Индекс УДК 544
546
539.2
Ориентированные пленки In[3 - x]S[4] на поверхности (100) монокристаллов Si, GaAs, InP
[Текст]
А. В. Наумов, А. В. Сергеева, В. Н. Семенов
Аннотация Методом пиролиза аэрозоля водных растворов с использованием тиокарбамида в качестве сульфидизирующего агента осаждены пленки кубического сульфида индия на монокристаллические подложки: In[3 - x]S[4] (111) /Si (100), In[3 - x]S[4] (111) -GaAs (100) и In[3 - x]S[4] (111) /InP (100). Установлена возрастающая зависимость параметра a решетки сульфида от параметра решетки подложки, тогда как наибольшие структурные напряжения (наблюдаемые по уширению дифракционных рефлексов) сохраняются в пленке, выращенной на GaAs. Показано, что для данных пленок, в отличие от пленок, осажденных тем же методом на стеклообразных подложках, характерны постоянный фазовый состав и текстура (111).
Название источника Неорганические материалы
Место и дата издания 2017
Прочая информация Т. 53, № 6. - С. 570-577