| Индекс УДК |
535.33 543.4/.5 |
|
Влияние облучения на стойкость полиуретановых матриц в лазерном элементе [Текст] Л. Ф. Косянчук [и др.] |
|
| Аннотация | Методами ИК спектроскопии и динамического механического анализа изучена фотоокислительная деструкция полиуретанов на основе гексаметилендиизоцианата с олигоэфирной составляющей разной природы. Установлено, что в густосшитом полиуретане на основе простого олигоэфиртриола молекулярной массы 500 при фотоокислении наблюдается тенденция к увеличению плотности сшивки. Показана большая стабильность полиуретана, содержащего сложноэфирные группы, по сравнению с полиуретаном на основе простого олигоэфирдиола с близкой молекулярной массой. |
| Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
| Место и дата издания | 2017 |
| Прочая информация | Т. 84, № 2. - С. 316-321 |
