Поиск

Селективное растворение сплава Cu[0.7]Al[0.3] в тонких пленках: зависимость от микроструктуры

Авторы: Су, Ж. Жиан, М. Ван, Х. Лиу, Я.
Подробная информация
Индекс УДК 544.6
Селективное растворение сплава Cu[0.7]Al[0.3] в тонких пленках: зависимость от микроструктуры
Текст
Электрохимия
2015
Т. 51, № 9. - С. 937-943