Исследование пространственного распределения фототока в плоскости Si-p-n-фотодиода с наноостровками GeSi методом сканирующей ближнепольной оптической микроскопии
Филатов, Д. О., Казанцева, И. А., Шенгуров, В. Г., Чалков, В. Ю., Денисов, С. А., Горшков, А. П., Мишкин, В. П.
Исследование пространственного распределения фототока в плоскости Si-p-n-фотодиода с наноостровками GeSi методом сканирующей ближнепольной оптической микроскопии, [Электронный ресурс]
ил.
Физика и техника полупроводников, 2017, Т. 51, вып. 4. - С. 563-568
Филатов_исследование
