Поиск

Параметры процесса ионно-ассистируемого осаждения металлооксидных полупроводниковых пленок сложного состава ряда элементов и управление свойствами пленок

Местонахождение Краткая информация
Маркер записи n 22 7 4500
Контрольный номер RU/IS/BASE/454154236
Дата корректировки 11:20:25 26 апреля 2025 г.
Служба первич. каталог. BY-HM0026
539.234
5608н.о.
5608н.о.
001
2
48-04
Параметры процесса ионно-ассистируемого осаждения металлооксидных полупроводниковых пленок сложного состава ряда элементов и управление свойствами пленок
Отчет о НИР (промежуточ.)
БГТУ;Руководитель Шишкин Н.Я.-ГР20012945
Минск
2003
37с
газочувствительность
магнетронное напыление
окисление
оксид ванадия
оксид вольфрама
селективность
тонкая пленка
электрофизические свойства
269