Поиск

VLSI technology

Авторы: Пирс, К. Sze, S. M. Адамс, А. Кац, Л. Цай, Дж. Сейдел, Т. Макгиллис, Д.
Заказ Местонахождение Подробная информация
Индекс УДК 621.382.049
Технология СБИС
Текст
[монография] : в 2 кн.
под ред. С. Зи ; пер. с англ.: В. М. Звероловлева, канд. физ.-мат. наук В. Н. Лейкина, В. Б. Петрова, канд. техн. наук Б. Л. Эйдельмана ; под ред. д-ра техн. наук Ю. Д. Чистякова
Кн. 1
Место издания Москва
Издательство Мир
Дата издания оригинала 1986
Объем 404 с.
Аннотация В книге рассмотрены вопросы получения монокристаллов кремния, подготовки подложек, выращивания эпитаксиальных слоев, осаждения пленок различных материалов, термического окисления, диффузии, ионной имплантации, а также литографические методы формирования топологических рисунков с субмикронными размерами элементов.