Особенности фазообразования покрытий (Cr, Fl)N, осаждаемых с использованием плазмы вакуумно-дугового разряда
Харлан, Ю. А., Латушкина, С. Д., Комаровская, В. М., Шкробот, В. М., Мартинкевич, Я. Ю.
Особенности фазообразования покрытий (Cr, Fl)N, осаждаемых с использованием плазмы вакуумно-дугового разряда, [Текст]
Минск :
ФТИ НАН Беларуси ,
2018 .-
ил., табл.
Современные методы и технологии создания и обработки материалов, Минск : ФТИ НАН Беларуси, 2018, Кн. 1. - С. 215-223, RU/IS/BASE/601031192, 978-985-6441-56-4 (кн. 1)
