| Индекс УДК | 621.3.049.77 |
|
Устойчивость двухслойного силицена на никелевой подложке при интеркаляции лития А. Е. Галашев, О. Р. Рахманова |
|
| Аннотация | В молекулярно-динамическом эксперименте исследованы процессы литизации и делитизации совершенного и дефектного (содержащего моновакансии) силиценового канала, находящегося на подложке Ni (III). Показано, что такая система может существовать во времени, не разрушаясь, вплоть до 1 нс. Предельное количество ионов лития, интеркалируемых в канал, для модифицированного моновакансиями силицена на 20% выше, чем для бездефектной структуры. При этом, силиценовые листы не разрушаются и сохраняют свою целостность. Преимущественное наблюдаемое расположение атомов лития в канале - над центрами гексагональных кремниевых колец. В канале, образованном совершенным силиценом, коэффициент подвижности лития в два раза выше, чем в дефектной структуре. В целом, никель в качестве подложки для силиценового канала может выступать перспективным материалом с точки зрения достижения высокой динамической емкости силиценового электрода для литий-ионных батарей. |
| Название источника | Физика и химия стекла |
| Место и дата издания | 2020 |
| Прочая информация | Т. 46, № 4. - С. 404-415 |
